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光辐射简介-波长在10nm~1mm可以材质表面发生物理改变

信息分类:行业动态   发布者:yiyi   时间:2013-4-24 1:29:11
光辐射简介-波长在10nm~1mm可以材质表面发生物理改变

6. 光辐射 
光辐射(photon irradiation)(雷射处理)之优势除了在于可改善材料与基材之间的附着性之外,
同时,此方法可处理非常小的区域(约5 mm左右),不会影响到高分子材料之主体性质。
利用光辐射处理材料时,可以根据选择使用不同的功率,使材料表面发生物理及化学变化。 

7. 电浆处理 
电浆处理(plasma treatment)为最常使用在改变高分子材料表面性质的技术。
依据通入不同的气体电浆(例如:氩气、氧气、氮气及含氟气体),可使表面带有不同的官能基,

例如:氧气电浆处理可提升高分子材料的表面能;而相反地,含氟气体电浆则可降低高分子材料的表面能。

另外,可藉由通入惰性气体电浆(例如:氩气),使高分子材料产生交联。使用电浆处理只会改变材料表面约数十奈米厚度的性质,
而不会影响到整体材料的整体性质。然而,此技术的最大的技术瓶颈在于必须使用真空系统,增加处理操作的成本。 



8. 电浆聚合 
电浆聚合(plasma polymerization)是应用电浆技术的方法之一,利用电浆之能量,将单体激发成为气态形式,
单体可在基材上进行聚合反应,沈积厚度均匀、平整、无孔洞且具交联性的高分子薄膜。
利用电浆聚合制备之薄膜可应用于各种基材,且具有良好的附着性。电浆聚合沈积高分子薄膜常被应用在生医材料及微电子元件工业上

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